具槽石斛，茎通常直立，肉质，扁棒状，下部收狭为细圆柱形，不分枝，具纵条纹和数个节。叶纸质，数枚，互生于茎的近顶端，常斜举，长圆形。总状花序从当年生具叶的茎上端发出，长8-15厘米，下垂，密生少数至多数花；

花质地薄，白天张开，晚间闭合，奶黄色；花瓣近倒卵形，长2.4厘米，宽1.1厘米，先端锐尖，基部收狭为短爪，具5条脉；唇瓣的颜色较深，呈橘黄色。

近基部两侧各具1个褐色斑块，近圆形。花期6月。具槽石斛生于海拔700-800米的密林中树干上。产中国云南南部，锡金、印度东北部、缅甸、泰国、老挝也有分布。

形态特征：具槽石斛为总状花序从当年生具叶的茎上端发出，长8-15厘米，下垂，密生少数至多数花；花序柄基部有3-4枚覆瓦状的鞘；花苞片很小，狭卵状披针形，长约5毫米；

花梗和子房长约2.5厘米；花质地薄，白天张开，晚间闭合，奶黄色；中萼片长圆形，长约2.5厘米，宽9毫米，先端近锐尖，具5-6条脉，侧萼片与中萼片近等大；萼囊圆锥形，宽而钝，长约5毫米。

花瓣近倒卵形，长2.4厘米，宽1.1厘米，先端锐尖，基部收狭为短爪，具5条脉；唇瓣的颜色较深，呈橘黄色，近基部两侧各具1个褐色斑块，近圆形，长、宽约2厘米，两侧围抱蕊柱而使整个唇瓣呈兜状。

先端微凹，基部具短爪，唇盘上面的前半部密被短柔毛，边缘具睫状毛；蕊柱长约5毫米；药帽前后压扁的半球形或圆锥形，顶端稍凹，光滑，前端边缘多少不整齐。具槽石斛的花期6月。

生长习性：具槽石斛是一种喜阴凉的多年生草本植物，喜在温暖、潮湿、以年降雨量1000毫米以上、半阴半阳的环境，1月平均气温高于8℃的亚热带深山老林中生长为佳，适宜生长温度为15到28度，适宜生长空气湿度为60%以上。

对土肥要求不甚严格，野生多在疏松且厚的树皮或树干上生长，有的也生长于石缝中。属气生根系，主要要求根部通透性好，采用的基质最好能通风透气滤水。

在适宜的温度湿度下，生长速度快，生存能力非常强。每年春末夏初，二年生茎上部节上抽出花序，开花后从茎基长出新芽发育成茎，秋冬季节进入休眠期。

具槽石斛的栽培技术

选地：选地、整地 根据其生长习性，石斛类栽培地宜选半阴半阳的环境，空气湿度在80%以上，冬季气温在0℃以上地区。人工可控环境也可，树种应以黄桷树、梨树、樟树等且应树皮厚有纵沟、含水多、枝叶茂、树干粗大的活树，石块地也应在阴凉、湿润地区，石块上应有苔藓生长及表面有少量腐殖质。

选盆：通常选用四壁多孔的塑料或陶瓷花盆，用碳根、泥炭藓、树皮块、木炭块等作盆栽材料。根据兰苗的大小，选择不同规格的花盆，但不宜用大盆栽小苗口上述栽好材料在使用前。

必需在清水中浸泡1天以上备用。盆底要多垫大瓦片或碎砖块，深度至盆底约1/3处，然后将兰苗放于盆中央，并在一旁插一细竹竿以固定兰苗，再填入其他栽培材料，注意根与根之间用材料隔开。

浇水：栽植初期先放在阴凉阴凉并有散射光处，仅向叶面上喷些水，勿向盆内浇水。约10-15天后，待萌发出新根后两移至阴棚下养护。生长季节浇水要干湿相间保持适度干薄饼肥水。

生长旺盛期树每天浇水一次，干旱季节和炎夏还需经常在花盆四周地面上喷水，以保持较高的空气湿度，并要注意通风良好。冬季休眠期应少浇水。后期空气湿度过小要经常浇水保湿，可用喷雾器以喷雾的形式浇水。

温度：刚移栽的组培苗对水分很敏感，缺水则生长缓慢、干枯、成活率低。而喷雾过多则渍水烂根，温度高、湿度大时还易引发软腐病大规模发生。移栽后一周内（幼苗尚未发新根）空气湿度宜保持在90%左右。

一周后，植株开始发新根，空气湿度可保持在70%-80%。种植畦干湿交潜有利于发根长芽。忌强光直射，春秋两季早上可见阳光，冬季可置光照充足处，其他时间置于具有明亮散射光而又通风的地方。越冬温度保持在8-10℃即可。

施肥：由于石斛类为气生根，因此要喷施适宜的叶面肥作为营养液，以供给植株充足的养分，利早发根长芽。叶面肥可以选择硝酸钾、磷酸二氢钾、腐植酸类等，以及进口三元复合肥和稀释的MS培养基等。

一般移栽后一周，植株新根发生后开始喷施千分之一的硝酸钾或磷酸二氢钾，7-10天喷一次，连续喷3次。长出新芽后每隔10-15天喷3‰的三元复合肥等。

生长地贫瘠应注意追肥，第一次在清明前后，以氮肥混合猪牛粪及河泥为主。第二次在立冬前后用花生鼓、菜籽饼、过磷酸钙等加入河泥调匀糊在根部，此外尚可根外追肥。

修枝：石斛生长地的都闭度在60%左右，因此要经常对附生树进行整枝修剪，以免过于荫蔽或郁闭度不够。每年春天前发新整时，结合采收老茎将丛内的枯茎剪除，并除去病茎、弱茎以及病者根，栽种6-8年后视丛蔸生长情况翻蔸重新分枝繁殖。